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更新時(shí)間：2023-08-23 
瀏覽次數(shù)：1363orc 半導(dǎo)體光刻機(jī)用途：
WL-CSP,IGBT,CIS等的 6/8/12 英寸光刻。
特長(zhǎng)：
1.寬頻譜光刻 (與菜單連動(dòng)的 ghi線 gh線, i線的自動(dòng)切換)。
2.搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)。
3.最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式。
4.光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響。
| 型式 | PPS-8200/8300 |
|---|---|
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| 解像力 | 2.0 µmL/S(感光材厚2.0 µm) |
| NA（開(kāi)口數(shù)） | 0.16、0.1可變 |
| 縮小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波長(zhǎng) | ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動(dòng)) |
| 視野尺寸 | 6inch |
| 重復(fù)對(duì)位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 裝置尺寸／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
| 主要特注選項(xiàng)規(guī)格 | 反面對(duì)位功能系統(tǒng) 晶圓邊緣曝光 晶圓不曝光功能 薄晶圓搬送系統(tǒng) GEM通信對(duì)應(yīng) 在線對(duì)應(yīng) |
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